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Simulation of inverse reactive ion etching lag

Simulation of inverse reactive ion etching lag

R. Knizikevičius

作者R. Knizikevičius
卷第72卷
期第1期
印刷ISSN0042-207X
文件大小131.72KB
发表时间2003
DOI10.1016/s0042-207x(03)00099-x
页码53-57

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