Ultrathin membrane masks for electron projection lithography

• 作者O. R. Wood; W. J. Trybula; J. Greschner; S. Kalt; T. Bayer; S. Shimizu; H. Yamamoto; K. Suzuki; M. S. Gordon; C. F. Robinson; R. S. Dhaliwal; C. W. Thiel; N. Caldwell; M. S. Lawliss; C. Huang
• 文件大小1395.46KB
• 发表时间2004
• DOI10.1116/1.1802911