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Comparison of SiOx structure in RF sputtered samples

Comparison of SiOx structure in RF sputtered samples

H. C. Swart; E. D. van Hattum; W. M. Arnoldbik; F. H. P. M. Habraken

作者H. C. Swart; E. D. van Hattum; W. M. Arnoldbik; F. H. P. M. Habraken
卷第1卷
期第9期
印刷ISSN1610-1634
电子ISSN1610-1642
文件大小173.61KB
发表时间2004
DOI10.1002/pssc.200404811
页码2286-2291

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