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Application of selective epitaxy for formation of ultra shallow SiGe-based junctions

Application of selective epitaxy for formation of ultra shallow SiGe-based junctions

J. Hållstedt; C. Isheden; M. Östling; R. Baubinas; J. Matukas; V. Palenskis; H.H. Radamson
  • 作者J. Hållstedt; C. Isheden; M. Östling; R. Baubinas; J. Matukas; V. Palenskis; H.H. Radamson
  • 印刷ISSN0921-5107
  • 文件大小230.38KB
  • 发表时间2004
  • DOI10.1016/j.mseb.2004.07.052
  • 页码180-183
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