发现好书期刊，享受阅读乐趣

海量图书期刊资源，随时随地畅享阅读乐趣

Atomic Layer Deposition of Hafnium Dioxide Films from Hafnium Hydroxylamide and Water.

Kaupo Kukli; Mikko Ritala; Markku Leskelae; Timo Sajavaara; Juhani Keinonen; Anthony C. Jones; Neil L. Tobin

作者Kaupo Kukli; Mikko Ritala; Markku Leskelae; Timo Sajavaara; Juhani Keinonen; Anthony C. Jones; Neil L. Tobin
卷第35卷
期第22期
印刷ISSN0931-7597
电子ISSN1522-2667
文件大小55.79KB
发表时间2004
DOI10.1002/chin.200422014