Highly Porous Nanocluster TiO[sub 2] Films Deposited Using APCVD in an Excess of Water Vapor

• 期刊名称Journal of The Electrochemical Society
• 作者Richards, B. S.; Huong, N. T. P.; Crosky, A.
• 卷第152卷
• 期第7期
• 印刷ISSN0013-4651
• 文件大小210.67KB
• 发表时间2005
• DOI10.1149/1.1921687