Kinetic Model of Si Oxidation at HfO 2 /Si Interface with Post Deposition Annealing
- 期刊名称Japanese Journal of Applied Physics
- 作者Shimizu, Haruka; Kita, Koji; Kyuno, Kentaro; Toriumi, Akira
- 卷第44卷
- 期第8期
- 印刷ISSN0021-4922
- 电子ISSN1347-4065
- 文件大小630.57KB
- 发表时间2005-8-5
- DOI10.1143/jjap.44.6131
- 页码6131-6135
Fortsetzung von Crelle's Journal für Mathematik.Borchardt, C.W. · Journal für die reine und angewandte Mathematik (Crelles Journal) · 1856
Über die Zeichen der Mathematik.Schellbach, Karl · Journal für die reine und angewandte Mathematik (Crelles Journal) · 1834
Verallgemeinerung der in meiner Arbeit: „Ein Satz über trigonometrische Polynome mit Lücken und seine Anwendung in der Theorie der Fourier-Reihen“, Journal für die reine und angewandte Math. Bd. 163 bewiesenen Sätze.Journal für die reine und angewandte Mathematik (Crelles Journal) · 1932
Über die Zeichen der Mathematik. (Schluß).Schellbach, Karl · Journal für die reine und angewandte Mathematik (Crelles Journal) · 1834
Alexander von Humboldt über Crelles Journal.von Humboldt, A. · Journal für die reine und angewandte Mathematik (Crelles Journal) · 1971
Über absolut reine Ringe.Journal für die reine und angewandte Mathematik (Crelles Journal) · 1973
150 Jahre Crelles Journal.Journal für die reine und angewandte Mathematik (Crelles Journal) · 1976
Oszillationstheoreme für die Eigenvektoren spezieller Matrizen.Journal für die reine und angewandte Mathematik (Crelles Journal) · 1943