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Phase coexistence in the metal–insulator transition of a VO2 thin film

Y.J. Chang; C.H. Koo; J.S. Yang; Y.S. Kim; D.H. Kim; J.S. Lee; T.W. Noh; Hyun-Tak Kim; B.G. Chae

作者Y.J. Chang; C.H. Koo; J.S. Yang; Y.S. Kim; D.H. Kim; J.S. Lee; T.W. Noh; Hyun-Tak Kim; B.G. Chae
卷第486卷
印刷ISSN0040-6090
文件大小363.67KB
发表时间2005
DOI10.1016/j.tsf.2004.11.220
页码46-49