Preferential coalescence of nanocrystalline silicon on different film substrates
C.Y. Lin; Y.K. Fang; S.F. Chen; C.S. Lin; T.H. Chou; S.B. Hwang; J.S. Hwang; K.I. Lin
- 作者C.Y. Lin; Y.K. Fang; S.F. Chen; C.S. Lin; T.H. Chou; S.B. Hwang; J.S. Hwang; K.I. Lin
- 卷第352卷
- 期第1期
- 印刷ISSN0022-3093
- 文件大小516.07KB
- 发表时间2006
- DOI10.1016/j.jnoncrysol.2005.11.006