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Diffusion Barrier Properties of Atomic Layer Deposited Ultrathin Ta[sub 2]O[sub 5] and TiO[sub 2] Films

Diffusion Barrier Properties of Atomic Layer Deposited Ultrathin Ta[sub 2]O[sub 5] and TiO[sub 2] Films

Alén, Petra; Vehkamäki, Marko; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku

期刊名称Journal of The Electrochemical Society
作者Alén, Petra; Vehkamäki, Marko; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
卷第153卷
期第4期
印刷ISSN0013-4651
文件大小395.68KB
发表时间2006
DOI10.1149/1.2168389

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