Influence of single and double deposition temperatures on the interface quality of atomic layer deposited Al[sub 2]O[sub 3] dielectric thin films on silicon

DuenÌas, S.; CastaÌn, H.; GarciÌa, H.; de Castro, A.; BailoÌn, L.; Kukli, K.; Aidla, A.; Aarik, J.; MaÌndar, H.; Uustare, T.; Lu, J.; HaÌrsta, A.

期刊名称Journal of Applied Physics
作者DuenÌas, S.; CastaÌn, H.; GarciÌa, H.; de Castro, A.; BailoÌn, L.; Kukli, K.; Aidla, A.; Aarik, J.; MaÌndar, H.; Uustare, T.; Lu, J.; HaÌrsta, A.
卷第99卷
期第5期
印刷ISSN0021-8979
文件大小1015.09KB
发表时间2006
DOI10.1063/1.2177383

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