Characteristics of Mixed Oxides and Nanolaminates of Atomic Layer Deposited HfO[sub 2]–TiO[sub 2] Gate Dielectrics

Triyoso, D. H.; Hegde, R. I.; Wang, X.-D.; Stoker, M. W.; Rai, R.; Ramon, M. E.; White, B. E.; Tobin, P. J.

期刊名称Journal of The Electrochemical Society
作者Triyoso, D. H.; Hegde, R. I.; Wang, X.-D.; Stoker, M. W.; Rai, R.; Ramon, M. E.; White, B. E.; Tobin, P. J.
卷第153卷
期第9期
印刷ISSN0013-4651
文件大小990.20KB
发表时间2006
DOI10.1149/1.2216528

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