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Effect of amorphization and carbon co-doping on activation and diffusion of boron in silicon

Pawlak, B. J.; Janssens, T.; Brijs, B.; Vandervorst, W.; Collart, E. J. H.; Felch, S. B.; Cowern, N. E. B.

期刊名称Applied Physics Letters
作者Pawlak, B. J.; Janssens, T.; Brijs, B.; Vandervorst, W.; Collart, E. J. H.; Felch, S. B.; Cowern, N. E. B.
卷第89卷
期第6期
印刷ISSN0003-6951
文件大小325.74KB
发表时间2006
DOI10.1063/1.2227863