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Thermal stability of a HfO[sub 2]∕SiO[sub 2] interface

Thermal stability of a HfO[sub 2]∕SiO[sub 2] interface

Ikarashi, Nobuyuki; Watanabe, Koji; Masuzaki, Koji; Nakagawa, Takashi
  • 期刊名称Applied Physics Letters
  • 作者Ikarashi, Nobuyuki; Watanabe, Koji; Masuzaki, Koji; Nakagawa, Takashi
  • 卷第88卷
  • 期第10期
  • 印刷ISSN0003-6951
  • 文件大小396.28KB
  • 发表时间2006
  • DOI10.1063/1.2182023
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