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Annealing effects on microstructure and properties of Ta–Al thin film resistors

Annealing effects on microstructure and properties of Ta–Al thin film resistors

C.K. Chung; Y.L. Chang; T.S. Chen; P.J. Su
  • 作者C.K. Chung; Y.L. Chang; T.S. Chen; P.J. Su
  • 卷第201卷
  • 期第7期
  • 印刷ISSN0257-8972
  • 文件大小743.83KB
  • 发表时间2006
  • DOI10.1016/j.surfcoat.2006.08.059
  • 页码4195-4200
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