Microcrystalline silicon thin films grown at high deposition rate by PECVD

G. Ambrosone; U. Coscia; S. Lettieri; P. Maddalena; M. Ambrico; G. Perna; C. Minarini

作者G. Ambrosone; U. Coscia; S. Lettieri; P. Maddalena; M. Ambrico; G. Perna; C. Minarini
印刷ISSN0040-6090
文件大小169.57KB
发表时间2006
DOI10.1016/j.tsf.2005.12.110
页码280-284

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