Oxide interface studies using second harmonic generation

N.H. Tolk; M.L. Alles; R. Pasternak; X. Lu; R.D. Schrimpf; D.M. Fleetwood; R.P. Dolan; R.W. Standley

作者N.H. Tolk; M.L. Alles; R. Pasternak; X. Lu; R.D. Schrimpf; D.M. Fleetwood; R.P. Dolan; R.W. Standley
卷第84卷
印刷ISSN0167-9317
文件大小683.65KB
发表时间2007
DOI10.1016/j.mee.2007.04.101
页码2089-2092

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