Analysis of the substrate effects of strain-hardening thin films on silicon under nanoindentation
- 作者T.H. Wang; T.H. Fang; Y.C. Lin
- 卷第86卷
- 期第3期
- 印刷ISSN0947-8396
- 电子ISSN1432-0630
- 文件大小1327.40KB
- 发表时间2007-03
- DOI10.1007/s00339-006-3779-6
- 页码335-341
Study of decays intoM. Ablikim; J.Z. Bai; Y. Bai; Y. Ban; X. Cai; H.F. Chen; H.S. Chen; H.X. Chen; J.C. Chen; Jin Chen; X.D. Chen; Y.B. Chen; Y.P. Chu; Y.S. Dai; Z.Y. Deng; S.X. Du; J. Fang; C.D. Fu; C.S. Gao; Y.N. Gao; S.D. Gu; Y.T. Gu; Y.N. Guo; Z.J. Guo; F.A. Harris; K.L. He; M. He; Y.K. Heng; H.M. Hu; T. Hu; G.S. Huang; X.T. Huang; Y.P. Huang; X.B. Ji; X.S. Jiang; J.B. Jiao; D.P. Jin; S. Jin; G. Li; H.B. Li; J. Li; L. Li; R.Y. Li; W.D. Li; W.G. Li; X.L. Li; X.N. Li; X.Q. Li; Y.F. Liang; B.J. Liu; C.X. Liu; Fang Liu; Feng Liu; H.M. Liu; J.P. Liu; H.B. Liu; J. Liu; Q. Liu; R.G. Liu; S. Liu; Z.A. Liu; F. Lu; G.R. Lu; J.G. Lu; C.L. Luo; F.C. Ma; H.L. Ma; Q.M. Ma; M.Q.A. Malik; Z.P. Mao; X.H. Mo; J. Nie; S.L. Olsen; R.G. Ping; N.D. Qi; J.F. Qiu; G. Rong; X.D. Ruan; L.Y. Shan; L. Shang; C.P. Shen; X.Y. Shen; H.Y. Sheng; H.S. Sun; S.S. Sun; Y.Z. Sun; Z.J. Sun; X. Tang; J.P. Tian; G.L. Tong; G.S. Varner; X. Wan; L. Wang; L.L. Wang; L.S. Wang; P. Wang; P.L. Wang; Y.F. Wang; Z. Wang; Z.Y. Wang; C.L. Wei; D.H. Wei; N. Wu; X.M. Xia; G.F. Xu; X.P. Xu; Y. Xu; M.L. Yan; H.X. Yang; M. Yang; Y.X. Yang; M.H. Ye; Y.X. Ye; C.X. Yu; C.Z. Yuan; Y. Yuan; Y. Zeng; B.X. Zhang; B.Y. Zhang; C.C. Zhang; D.H. Zhang; H.Q. Zhang; H.Y. Zhang; J.W. Zhang; J.Y. Zhang; X.Y. Zhang; Y.Y. Zhang; Z.X. Zhang; Z.P. Zhang; D.X. Zhao; J.W. Zhao; M.G. Zhao; P.P. Zhao; Z.G. Zhao; B. Zheng; H.Q. Zheng; J.P. Zheng; Z.P. Zheng; B. Zhong; L. Zhou; K.J. Zhu; Q.M. Zhu; X.W. Zhu; Y.S. Zhu; Z.A. Zhu; Z.L. Zhu; B.A. Zhuang; B.S. Zou · 2010
A study of charged κ inM. Ablikim; J.Z. Bai; Y. Bai; Y. Ban; X. Cai; H.F. Chen; H.S. Chen; H.X. Chen; J.C. Chen; Jin Chen; X.D. Chen; Y.B. Chen; Y.P. Chu; Y.S. Dai; Z.Y. Deng; S.X. Du; J. Fang; C.D. Fu; C.S. Gao; Y.N. Gao; S.D. Gu; Y.T. Gu; Y.N. Guo; Z.J. Guo; F.A. Harris; K.L. He; M. He; Y.K. Heng; H.M. Hu; T. Hu; G.S. Huang; X.T. Huang; Y.P. Huang; X.B. Ji; X.S. Jiang; J.B. Jiao; D.P. Jin; S. Jin; G. Li; H.B. Li; J. Li; L. Li; R.Y. Li; W.D. Li; W.G. Li; X.L. Li; X.N. Li; X.Q. Li; Y.F. Liang; B.J. Liu; C.X. Liu; Fang Liu; Feng Liu; H.M. Liu; J.P. Liu; H.B. Liu; J. Liu; Q. Liu; R.G. Liu; S. Liu; Z.A. Liu; F. Lu; G.R. Lu; J.G. Lu; C.L. Luo; F.C. Ma; H.L. Ma; Q.M. Ma; M.Q.A. Malik; Z.P. Mao; X.H. Mo; J. Nie; S.L. Olsen; R.G. Ping; N.D. Qi; J.F. Qiu; G. Rong; X.D. Ruan; L.Y. Shan; L. Shang; C.P. Shen; X.Y. Shen; H.Y. Sheng; H.S. Sun; S.S. Sun; Y.Z. Sun; Z.J. Sun; X. Tang; J.P. Tian; G.L. Tong; G.S. Varner; X. Wan; L. Wang; L.L. Wang; L.S. Wang; P. Wang; P.L. Wang; Y.F. Wang; Z. Wang; Z.Y. Wang; C.L. Wei; D.H. Wei; N. Wu; X.M. Xia; G.F. Xu; X.P. Xu; Y. Xu; M.L. Yan; H.X. Yang; M. Yang; Y.X. Yang; M.H. Ye; Y.X. Ye; C.X. Yu; C.Z. Yuan; Y. Yuan; Y. Zeng; B.X. Zhang; B.Y. Zhang; C.C. Zhang; D.H. Zhang; F. Zhang; H.Q. Zhang; H.Y. Zhang; J.W. Zhang; J.Y. Zhang; X.Y. Zhang; Y.Y. Zhang; Z.X. Zhang; Z.P. Zhang; D.X. Zhao; J.W. Zhao; M.G. Zhao; P.P. Zhao; Z.G. Zhao; B. Zheng; H.Q. Zheng; J.P. Zheng; Z.P. Zheng; B. Zhong; L. Zhou; K.J. Zhu; Q.M. Zhu; X.W. Zhu; Y.S. Zhu; Z.A. Zhu; Z.L. Zhu; B.A. Zhuang; B.S. Zou · 2010
Measurement of the branching fractions for andM. Ablikim; J.Z. Bai; Y. Bai; Y. Ban; X. Cai; H.F. Chen; H.S. Chen; H.X. Chen; J.C. Chen; Jin Chen; X.D. Chen; Y.B. Chen; Y.P. Chu; Y.S. Dai; Z.Y. Deng; S.X. Du; J. Fang; C.D. Fu; C.S. Gao; Y.N. Gao; S.D. Gu; Y.T. Gu; Y.N. Guo; Z.J. Guo; F.A. Harris; K.L. He; M. He; Y.K. Heng; H.M. Hu; T. Hu; G.S. Huang; X.T. Huang; Y.P. Huang; X.B. Ji; X.S. Jiang; J.B. Jiao; D.P. Jin; S. Jin; G. Li; H.B. Li; J. Li; L. Li; R.Y. Li; W.D. Li; W.G. Li; X.L. Li; X.N. Li; X.Q. Li; Y.F. Liang; B.J. Liu; C.X. Liu; Fang Liu; Feng Liu; H.M. Liu; J.P. Liu; H.B. Liu; J. Liu; Q. Liu; R.G. Liu; S. Liu; Z.A. Liu; F. Lu; G.R. Lu; J.G. Lu; C.L. Luo; F.C. Ma; H.L. Ma; Q.M. Ma; M.Q.A. Malik; Z.P. Mao; X.H. Mo; J. Nie; S.L. Olsen; R.G. Ping; N.D. Qi; J.F. Qiu; G. Rong; X.D. Ruan; L.Y. Shan; L. Shang; C.P. Shen; X.Y. Shen; H.Y. Sheng; H.S. Sun; S.S. Sun; Y.Z. Sun; Z.J. Sun; X. Tang; J.P. Tian; G.L. Tong; G.S. Varner; X. Wan; L. Wang; L.L. Wang; L.S. Wang; P. Wang; P.L. Wang; Y.F. Wang; Z. Wang; Z.Y. Wang; C.L. Wei; D.H. Wei; N. Wu; X.M. Xia; G.F. Xu; X.P. Xu; Y. Xu; M.L. Yan; H.X. Yang; M. Yang; Y.X. Yang; M.H. Ye; Y.X. Ye; C.X. Yu; C.Z. Yuan; Y. Yuan; Y. Zeng; B.X. Zhang; B.Y. Zhang; C.C. Zhang; D.H. Zhang; H.Q. Zhang; H.Y. Zhang; J.W. Zhang; J.Y. Zhang; X.Y. Zhang; Y.Y. Zhang; Z.X. Zhang; Z.P. Zhang; D.X. Zhao; J.W. Zhao; M.G. Zhao; P.P. Zhao; Z.G. Zhao; B. Zheng; H.Q. Zheng; J.P. Zheng; Z.P. Zheng; B. Zhong; L. Zhou; K.J. Zhu; Q.M. Zhu; X.W. Zhu; Y.S. Zhu; Z.A. Zhu; Z.L. Zhu; B.A. Zhuang; B.S. Zou · 2009
R value measurements for annihilation at 2.60, 3.07 and 3.65 GeVM. Ablikim; J.Z. Bai; Y. Bai; Y. Ban; X. Cai; H.F. Chen; H.S. Chen; H.X. Chen; J.C. Chen; Jin Chen; X.D. Chen; Y.B. Chen; Y.P. Chu; Y.S. Dai; Z.Y. Deng; S.X. Du; J. Fang; C.D. Fu; C.S. Gao; Y.N. Gao; S.D. Gu; Y.T. Gu; Y.N. Guo; Y.Q. Guo; Z.J. Guo; F.A. Harris; K.L. He; M. He; Y.K. Heng; H.M. Hu; J.H. Hu; T. Hu; G.S. Huang; X.T. Huang; Y.P. Huang; X.B. Ji; X.S. Jiang; J.B. Jiao; D.P. Jin; S. Jin; Y. Jin; G. Li; H.B. Li; H.H. Li; J. Li; L. Li; R.Y. Li; W.D. Li; W.G. Li; X.L. Li; X.N. Li; X.Q. Li; Y.F. Liang; B.J. Liu; C.X. Liu; Fang Liu; Feng Liu; H.M. Liu; J.P. Liu; H.B. Liu; J. Liu; Q. Liu; R.G. Liu; S. Liu; Z.A. Liu; F. Lu; G.R. Lu; J.G. Lu; C.L. Luo; F.C. Ma; H.L. Ma; Q.M. Ma; M.Q.A. Malik; Z.P. Mao; X.H. Mo; J. Nie; S.L. Olsen; R.G. Ping; N.D. Qi; J.F. Qiu; G. Rong; X.D. Ruan; L.Y. Shan; L. Shang; C.P. Shen; X.Y. Shen; H.Y. Sheng; H.S. Sun; S.S. Sun; Y.Z. Sun; Z.J. Sun; X. Tang; J.P. Tian; G.L. Tong; G.S. Varner; X. Wan; L. Wang; L.L. Wang; L.S. Wang; P. Wang; P.L. Wang; Y.F. Wang; Z. Wang; Z.Y. Wang; C.L. Wei; D.H. Wei; Y. Weng; N. Wu; X.M. Xia; G.F. Xu; X.P. Xu; Y. Xu; M.L. Yan; H.X. Yang; M. Yang; Y.X. Yang; M.H. Ye; Y.X. Ye; C.X. Yu; C.Z. Yuan; Y. Yuan; Y. Zeng; B.X. Zhang; B.Y. Zhang; C.C. Zhang; D.H. Zhang; H.Q. Zhang; H.Y. Zhang; J.W. Zhang; J.Y. Zhang; X.Y. Zhang; Y.Y. Zhang; Z.X. Zhang; Z.P. Zhang; D.X. Zhao; J.W. Zhao; M.G. Zhao; P.P. Zhao; Z.G. Zhao; B. Zheng; H.Q. Zheng; J.P. Zheng; Z.P. Zheng; B. Zhong; L. Zhou; K.J. Zhu; Q.M. Zhu; X.W. Zhu; Y.S. Zhu; Z.A. Zhu; Z.L. Zhu; B.A. Zhuang; B.S. Zou · 2009
Observation of charged κ in , at BESIIM. Ablikim; J.Z. Bai; Y. Bai; Y. Ban; X. Cai; H.F. Chen; H.S. Chen; J.C. Chen; Jin Chen; Y.B. Chen; Y.P. Chu; Y.S. Dai; Z.Y. Deng; S.X. Du; J. Fang; C.D. Fu; Y.N. Gao; Y.T. Gu; Z.J. Guo; F.A. Harris; K.L. He; M. He; Y.K. Heng; H.M. Hu; T. Hu; G.S. Huang; X.T. Huang; M. Ishida; S. Ishida; Y.P. Huang; X.B. Ji; X.S. Jiang; J.B. Jiao; D.P. Jin; S. Jin; T. Komada; S. Kurokawa; G. Li; H.B. Li; J. Li; L. Li; R.Y. Li; W.D. Li; W.G. Li; X.L. Li; X.N. Li; X.Q. Li; Y.F. Liang; B.J. Liu; C.X. Liu; Fang Liu; Feng Liu; H.M. Liu; J.P. Liu; H.B. Liu; Q. Liu; R.G. Liu; Z.A. Liu; F. Lu; G.R. Lu; J.G. Lu; C.L. Luo; F.C. Ma; H.L. Ma; Q.M. Ma; T. Maeda; Z.P. Mao; T. Matsuda; X.H. Mo; J. Nie; M. Oda; S.L. Olsen; R.G. Ping; J.F. Qiu; G. Rong; X.D. Ruan; L.Y. Shan; L. Shang; C.P. Shen; X.Y. Shen; H.Y. Sheng; H.S. Sun; S.S. Sun; Y.Z. Sun; Z.J. Sun; K. Takamatsu; X. Tang; J.P. Tian; Y. Toi; T. Tsuru; K. Ukai; G.S. Varner; X. Wan; L. Wang; L.L. Wang; L.S. Wang; P. Wang; P.L. Wang; Y.F. Wang; Z. Wang; Z.Y. Wang; C.L. Wei; D.H. Wei; N. Wu; G.F. Xu; X.P. Xu; Y. Xu; K. Yamada; I. Yamauchi; M.L. Yan; H.X. Yang; M. Yang; Y.X. Yang; M.H. Ye; Y.X. Ye; C.X. Yu; C.Z. Yuan; Y. Yuan; Y. Zeng; B.X. Zhang; B.Y. Zhang; C.C. Zhang; D.H. Zhang; H.Q. Zhang; H.Y. Zhang; J.W. Zhang; J.Y. Zhang; X.Y. Zhang; Y.Y. Zhang; Z.P. Zhang; J.W. Zhao; M.G. Zhao; P.P. Zhao; Z.G. Zhao; B. Zheng; H.Q. Zheng; J.P. Zheng; Z.P. Zheng; B. Zhong; L. Zhou; K.J. Zhu; Q.M. Zhu; X.W. Zhu; Y.S. Zhu; Z.A. Zhu; B.S. Zou · 2011
Partial wave analysis ofM. Ablikim; J.Z. Bai; Y. Bai; Y. Ban; X. Cai; H.F. Chen; H.S. Chen; H.X. Chen; J.C. Chen; Jin Chen; X.D. Chen; Y.B. Chen; Y.P. Chu; Y.S. Dai; Z.Y. Deng; S.X. Du; J. Fang; C.D. Fu; C.S. Gao; Y.N. Gao; S.D. Gu; Y.T. Gu; Y.N. Guo; Z.J. Guo; F.A. Harris; K.L. He; M. He; Y.K. Heng; J. Hou; H.M. Hu; T. Hu; G.S. Huang; X.T. Huang; Y.P. Huang; X.B. Ji; X.S. Jiang; J.B. Jiao; D.P. Jin; S. Jin; Y.F. Lai; H.B. Li; J. Li; R.Y. Li; W.D. Li; W.G. Li; X.L. Li; X.N. Li; X.Q. Li; Y.F. Liang; H.B. Liao; B.J. Liu; C.X. Liu; Fang Liu; Feng Liu; H.H. Liu; H.M. Liu; J.B. Liu; J.P. Liu; H.B. Liu; J. Liu; Q. Liu; R.G. Liu; S. Liu; Z.A. Liu; F. Lu; G.R. Lu; J.G. Lu; C.L. Luo; F.C. Ma; H.L. Ma; L.L. Ma; Q.M. Ma; M.Q.A. Malik; Z.P. Mao; X.H. Mo; J. Nie; S.L. Olsen; R.G. Ping; N.D. Qi; H. Qin; J.F. Qiu; G. Rong; X.D. Ruan; L.Y. Shan; L. Shang; C.P. Shen; D.L. Shen; X.Y. Shen; H.Y. Sheng; H.S. Sun; S.S. Sun; Y.Z. Sun; Z.J. Sun; X. Tang; J.P. Tian; G.L. Tong; G.S. Varner; X. Wan; L. Wang; L.L. Wang; L.S. Wang; P. Wang; P.L. Wang; W.F. Wang; Y.F. Wang; Z. Wang; Z.Y. Wang; C.L. Wei; D.H. Wei; Y. Weng; N. Wu; X.M. Xia; X.X. Xie; G.F. Xu; X.P. Xu; Y. Xu; M.L. Yan; H.X. Yang; M. Yang; Y.X. Yang; M.H. Ye; Y.X. Ye; C.X. Yu; G.W. Yu; C.Z. Yuan; Y. Yuan; S.L. Zang; Y. Zeng; B.X. Zhang; B.Y. Zhang; C.C. Zhang; D.H. Zhang; H.Q. Zhang; H.Y. Zhang; J.W. Zhang; J.Y. Zhang; X.Y. Zhang; Y.Y. Zhang; Z.X. Zhang; Z.P. Zhang; D.X. Zhao; J.W. Zhao; M.G. Zhao; P.P. Zhao; Z.G. Zhao; H.Q. Zheng; J.P. Zheng; Z.P. Zheng; B. Zhong; L. Zhou; K.J. Zhu; Q.M. Zhu; X.W. Zhu; Y.C. Zhu; Y.S. Zhu; Z.A. Zhu; Z.L. Zhu; B.A. Zhuang; B.S. Zou · 2008
Study ofM. Ablikim; J.Z. Bai; Y. Ban; J.G. Bian; D.V. Bugg; X. Cai; J.F. Chang; H.F. Chen; H.S. Chen; H.X. Chen; J.C. Chen; Jin Chen; Jun Chen; M.L. Chen; Y.B. Chen; S.P. Chi; Y.P. Chu; X.Z. Cui; H.L. Dai; Y.S. Dai; Z.Y. Deng; L.Y. Dong; Q.F. Dong; S.X. Du; Z.Z. Du; J. Fang; S.S. Fang; C.D. Fu; H.Y. Fu; C.S. Gao; Y.N. Gao; M.Y. Gong; W.X. Gong; S.D. Gu; Y.N. Guo; Y.Q. Guo; Z.J. Guo; F.A. Harris; K.L. He; M. He; X. He; Y.K. Heng; H.M. Hu; T. Hu; G.S. Huang; X.P. Huang; X.T. Huang; X.B. Ji; C.H. Jiang; X.S. Jiang; D.P. Jin; S. Jin; Y. Jin; Yi Jin; Y.F. Lai; F. Li; G. Li; H.H. Li; J. Li; J.C. Li; Q.J. Li; R.Y. Li; S.M. Li; W.D. Li; W.G. Li; X.L. Li; X.Q. Li; Y.L. Li; Y.F. Liang; H.B. Liao; C.X. Liu; F. Liu; Fang Liu; H.H. Liu; H.M. Liu; J. Liu; J.B. Liu; J.P. Liu; R.G. Liu; Z.A. Liu; Z.X. Liu; F. Lu; G.R. Lu; H.J. Lu; J.G. Lu; C.L. Luo; L.X. Luo; X.L. Luo; F.C. Ma; H.L. Ma; J.M. Ma; L.L. Ma; Q.M. Ma; X.B. Ma; X.Y. Ma; Z.P. Mao; X.H. Mo; J. Nie; Z.D. Nie; S.L. Olsen; H.P. Peng; N.D. Qi; C.D. Qian; H. Qin; J.F. Qiu; Z.Y. Ren; G. Rong; L.Y. Shan; L. Shang; D.L. Shen; X.Y. Shen; H.Y. Sheng; F. Shi; X. Shi; H.S. Sun; J.F. Sun; S.S. Sun; Y.Z. Sun; Z.J. Sun; X. Tang; N. Tao; Y.R. Tian; G.L. Tong; G.S. Varner; D.Y. Wang; J.Z. Wang; K. Wang; L. Wang; L.S. Wang; M. Wang; P. Wang; P.L. Wang; S.Z. Wang; W.F. Wang; Y.F. Wang; Z. Wang; Z.Y. Wang; Zhe Wang; Zheng Wang; C.L. Wei; D.H. Wei; N. Wu; Y.M. Wu; X.M. Xia; X.X. Xie; B. Xin; G.F. Xu; H. Xu; S.T. Xue; M.L. Yan; F. Yang; H.X. Yang; J. Yang; Y.X. Yang; M. Ye; M.H. Ye; Y.X. Ye; L.H. Yi; Z.Y. Yi; C.S. Yu; G.W. Yu; C.Z. Yuan; J.M. Yuan; Y. Yuan; S.L. Zang; Y. Zeng; Yu Zeng; B.X. Zhang; B.Y. Zhang; C.C. Zhang; D.H. Zhang; H.Y. Zhang; J. Zhang; J.W. Zhang; J.Y. Zhang; Q.J. Zhang; S.Q. Zhang; X.M. Zhang; X.Y. Zhang; Y.Y. Zhang; Yiyun Zhang; Z.P. Zhang; Z.Q. Zhang; D.X. Zhao; J.B. Zhao; J.W. Zhao; M.G. Zhao; P.P. Zhao; W.R. Zhao; X.J. Zhao; Y.B. Zhao; Z.G. Zhao; H.Q. Zheng; J.P. Zheng; L.S. Zheng; Z.P. Zheng; X.C. Zhong; B.Q. Zhou; G.M. Zhou; L · 2004