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Rigorous Extraction of Process Variations for 65-nm CMOS Design

Rigorous Extraction of Process Variations for 65-nm CMOS Design

Zhao, Wei; Liu, Frank; Agarwal, Kanak; Acharyya, Dhruva; Nassif, Sani R.; Nowka, Kevin J.; Cao, Yu
  • 期刊名称IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing
  • 作者Zhao, Wei; Liu, Frank; Agarwal, Kanak; Acharyya, Dhruva; Nassif, Sani R.; Nowka, Kevin J.; Cao, Yu
  • 卷第22卷
  • 期第1期
  • 印刷ISSN0894-6507
  • 文件大小1233.03KB
  • 发表时间2009-02
  • DOI10.1109/TSM.2008.2011182
  • 页码196-203
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