Generation of RF plasma assisted high power pulsed sputtering glow discharge without using a magnetic field

• 作者Ken Yukimura; Arutiun P. Ehiasarian
• 卷第267卷
• 印刷ISSN0168-583X
• 文件大小291.98KB
• 发表时间2009
• DOI10.1016/j.nimb.2009.01.110
• 页码1701-1704