Characterization and patterning of novel high-TCR Ta–Si–N thin films for sensor application

• 作者C.K. Chung; Y.L. Chang; J.C. Wu; J.J. Jhu; T.S. Chen
• 卷第156卷
• 期第2期
• 印刷ISSN0924-4247
• 文件大小712.83KB
• 发表时间2009
• DOI10.1016/j.sna.2009.08.030
• 页码323-327