Reflective multilayer optics for 6.7 nm wavelength radiation sources and next generation lithography

• 作者T. Tsarfati; R.W.E. van de Kruijs; E. Zoethout; E. Louis; F. Bijkerk
• 卷第518卷
• 期第5期
• 印刷ISSN0040-6090
• 文件大小329.10KB
• 发表时间2009
• DOI10.1016/j.tsf.2009.09.073
• 页码1365-1368