Combinatorial Plasma Etching Process
- 期刊名称Applied Physics Express
- 作者Moon, Chang Sung; Takeda, Keigo; Sekine, Makoto; Setsuhara, Yuichi; Shiratani, Masaharu; Hori, Masaru
- 卷第2卷
- 期第9期
- 印刷ISSN1882-0778
- 电子ISSN1882-0786
- 文件大小249.78KB
- 发表时间2009-9-4
- DOI10.1143/APEX.2.096001