Characteristics of thin plasmachemical silicon carbon nitride films deposited using hexamethyldisilane

V. I. Ivashchenko; O. K. Porada; L. A. Ivashchenko; I. I. Timofeeva; O. K. Sinel’nichenko; O. O. Butenko; M. V. Ushakov; L. A. Ushakova

作者V. I. Ivashchenko; O. K. Porada; L. A. Ivashchenko; I. I. Timofeeva; O. K. Sinel’nichenko; O. O. Butenko; M. V. Ushakov; L. A. Ushakova
卷第48卷
印刷ISSN1068-1302
电子ISSN1573-9066
文件大小230.86KB
发表时间2009-01
DOI10.1007/s11106-009-9096-9
页码66-72

发现好书期刊，享受阅读乐趣