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B diffusion in implanted Ni[sub 2]Si and NiSi layers

B diffusion in implanted Ni[sub 2]Si and NiSi layers

I. Blum; A. Portavoce; L. Chow; D. Mangelinck; K. Hoummada; G. Tellouche; V. Carron
  • 作者I. Blum; A. Portavoce; L. Chow; D. Mangelinck; K. Hoummada; G. Tellouche; V. Carron
  • 文件大小500.00KB
  • 发表时间2010
  • DOI10.1063/1.3303988
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