B diffusion in implanted Ni[sub 2]Si and NiSi layers
I. Blum; A. Portavoce; L. Chow; D. Mangelinck; K. Hoummada; G. Tellouche; V. Carron
- 作者I. Blum; A. Portavoce; L. Chow; D. Mangelinck; K. Hoummada; G. Tellouche; V. Carron
- 文件大小500.00KB
- 发表时间2010
- DOI10.1063/1.3303988