Quantitative strain characterization of SiGe heterostructures by high-resolution transmission electron microscopy

• 作者C.W. Zhao; Y.M. Xing; J.Z. Yu; G.Q. Han
• 卷第405卷
• 期第16期
• 印刷ISSN0921-4526
• 文件大小444.54KB
• 发表时间2010
• DOI10.1016/j.physb.2010.05.018
• 页码3433-3435