Development of large diameter ECR plasma source
Yoshinobu Kawai; Kiichiro Uchino; Hiroshi Muta; Shinji Kawai; Tobias Röwf
- 作者Yoshinobu Kawai; Kiichiro Uchino; Hiroshi Muta; Shinji Kawai; Tobias Röwf
- 卷第84卷
- 期第12期
- 印刷ISSN0042-207X
- 文件大小366.89KB
- 发表时间2010
- DOI10.1016/j.vacuum.2009.12.023
- 页码1381-1384