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Focus on Plasma Processes

Focus on Plasma Processes

Alves, L. L.; Ségui, Y.
  • 期刊名称The European Physical Journal Applied Physics
  • 作者Alves, L. L.; Ségui, Y.
  • 卷第49卷
  • 期第1期
  • 印刷ISSN1286-0042
  • 电子ISSN1286-0050
  • 文件大小36.64KB
  • 发表时间2010-01
  • DOI10.1051/epjap/2009196
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