Reaction-diffusion analysis for one-step plasma etching and bonding of microfluidic devices
M. Rosso; V. Van Steijn; L. C. P. M. De Smet; E. J. R. Sudhölter; C. R. Kleijn; M. T. Kreutzer
- 作者M. Rosso; V. Van Steijn; L. C. P. M. De Smet; E. J. R. Sudhölter; C. R. Kleijn; M. T. Kreutzer
- 文件大小548.71KB
- 发表时间2011
- DOI10.1063/1.3578450