Alleviating eSiGe Strain Relaxation Using Cryo-Implantation
Yang, C. L.; Li, C. I.; Lin, G. P.; Lai, I. M.; Liu, R.; Wang, H. Y.; Hsu, B. C.; Chan, M.; Wu, J. Y.; Guo, B. N.; Colombeau, B.; Wu, T.; Lu, S.
- 期刊名称Electrochemical and Solid-State Letters
- 作者Yang, C. L.; Li, C. I.; Lin, G. P.; Lai, I. M.; Liu, R.; Wang, H. Y.; Hsu, B. C.; Chan, M.; Wu, J. Y.; Guo, B. N.; Colombeau, B.; Wu, T.; Lu, S.
- 卷第14卷
- 期第11期
- 印刷ISSN1099-0062
- 文件大小191.33KB
- 发表时间2011
- DOI10.1149/2.023111esl