High quality AlGaN epilayers grown on sapphire using SiNx interlayers
K. Forghani; M. Klein; F. Lipski; S. Schwaiger; J. Hertkorn; R.A.R. Leute; F. Scholz; M. Feneberg; B. Neuschl; K. Thonke; O. Klein; U. Kaiser; R. Gutt; T. Passow
- 作者K. Forghani; M. Klein; F. Lipski; S. Schwaiger; J. Hertkorn; R.A.R. Leute; F. Scholz; M. Feneberg; B. Neuschl; K. Thonke; O. Klein; U. Kaiser; R. Gutt; T. Passow
- 卷第315卷
- 期第1期
- 印刷ISSN0022-0248
- 文件大小826.44KB
- 发表时间2011
- DOI10.1016/j.jcrysgro.2010.08.044
- 页码216-219