IR study of fundamental chemical reactions in atomic layer deposition of HfO2 with tetrakis(ethylmethylamino)hafnium (TEMAH), ozone, and water vapor

F. Hirose; Y. Kinoshita; K. Kanomata; K. Momiyama; S. Kubota; K. Hirahara; Y. Kimura; M. Niwano

作者F. Hirose; Y. Kinoshita; K. Kanomata; K. Momiyama; S. Kubota; K. Hirahara; Y. Kimura; M. Niwano
卷第258卷
期第19期
印刷ISSN0169-4332
文件大小716.40KB
发表时间2012
DOI10.1016/j.apsusc.2012.04.130

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