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Endpoint Detection in Plasma Etching Using FFT and SVM

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Han, Y. S.; Shin, S. H.; Park, Y. K.; Hong, S. J.; Han, S. S.

期刊名称ECS Transactions
作者Han, Y. S.; Shin, S. H.; Park, Y. K.; Hong, S. J.; Han, S. S.
卷第52卷
期第1期
印刷ISSN1938-6737
电子ISSN1938-5862
文件大小726.07KB
发表时间2013-03-08
DOI10.1149/05201.0907ecst
页码907-912

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