发现好书期刊,享受阅读乐趣

海量图书期刊资源,随时随地畅享阅读乐趣

HfO2-assisted SiO2 reduction in HfO2/SiO2/Si stacks

HfO2-assisted SiO2 reduction in HfO2/SiO2/Si stacks

Li, Xiuyan; Yajima, Takeaki; Nishimura, Tomonori; Nagashio, Kosuke; Toriumi, Akira
  • 期刊名称Thin Solid Films
  • 作者Li, Xiuyan; Yajima, Takeaki; Nishimura, Tomonori; Nagashio, Kosuke; Toriumi, Akira
  • 卷第557卷
  • 印刷ISSN0040-6090
  • 文件大小924.73KB
  • 发表时间2014-04
  • DOI10.1016/j.tsf.2013.10.142
  • 页码272-275
← 返回【学霸图书馆】主页