[IEEE 2014 IEEE Symposium on VLSI Technology - Honolulu, HI, USA (2014.6.9-2014.6.12)] 2014 Symposium on VLSI Technology (VLSI-Technology): Digest of Technical Papers - Verification on the extreme scalability of STT-MRAM without loss of thermal stability below 15 nm MTJ cell

Kim, Ju Hyun; Lim, W. C.; Pi, U. H.; Lee, J. M.; Kim, W. K.; Kim, J. H.; Kim, K. W.; Park, Y. S.; Park, S. H.; Kang, M. A.; Kim, Y. H.; Kim, W. J.; Kim, S. Y.; Park, J. H.; Lee, S. C.; Lee, Y. J.; Yoon, J. M.; Oh, S. C.; Park, S. O.; Jeong, S.; Nam, S. W.; Kang, H. K.; Jung, E. S.

作者Kim, Ju Hyun; Lim, W. C.; Pi, U. H.; Lee, J. M.; Kim, W. K.; Kim, J. H.; Kim, K. W.; Park, Y. S.; Park, S. H.; Kang, M. A.; Kim, Y. H.; Kim, W. J.; Kim, S. Y.; Park, J. H.; Lee, S. C.; Lee, Y. J.; Yoon, J. M.; Oh, S. C.; Park, S. O.; Jeong, S.; Nam, S. W.; Kang, H. K.; Jung, E. S.
文件大小493.82KB
发表时间2014
DOI10.1109/vlsit.2014.6894366
页码1-2

发现好书期刊，享受阅读乐趣

[IEEE 2014 IEEE Symposium on VLSI Technology - Honolulu, HI, USA (2014.6.9-2014.6.12)] 2014 Symposium on VLSI Technology (VLSI-Technology): Digest of Technical Papers - Verification on the extreme scalability of STT-MRAM without loss of thermal stability below 15 nm MTJ cell