Ultrathin, epitaxial cerium dioxide on silicon

• 期刊名称Applied Physics Letters
• 作者Flege, Jan Ingo; Kaemena, Björn; Höcker, Jan; Bertram, Florian; Wollschläger, Joachim; Schmidt, Thomas; Falta, Jens
• 卷第104卷
• 期第13期
• 印刷ISSN0003-6951
• 电子ISSN1077-3118
• 文件大小1624.90KB
• 发表时间2014-03-31
• DOI10.1063/1.4870585