Bias-enhanced post-treatment process for enhancing the electron field emission properties of ultrananocrystalline diamond films
Saravanan, A.; Huang, B. R.; Sankaran, K. J.; Dong, C. L.; Tai, N. H.; Lin, I. N.
- 期刊名称Applied Physics Letters
- 作者Saravanan, A.; Huang, B. R.; Sankaran, K. J.; Dong, C. L.; Tai, N. H.; Lin, I. N.
- 卷第106卷
- 期第11期
- 印刷ISSN0003-6951
- 电子ISSN1077-3118
- 文件大小1500.54KB
- 发表时间2015-03-16
- DOI10.1063/1.4915488