Evolution of electron temperature in inductively coupled plasma

• 期刊名称Applied Physics Letters
• 作者Lee, Hyo-Chang; Seo, B. H.; Kwon, Deuk-Chul; Kim, J. H.; Seong, D. J.; Oh, S. J.; Chung, C.-W.; You, K. H.; Shin, ChaeHo
• 卷第110卷
• 期第1期
• 印刷ISSN0003-6951
• 电子ISSN1077-3118
• 文件大小906.04KB
• 发表时间2017-01-04
• DOI10.1063/1.4971980