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Passivation of Ge/high-
              <i>κ</i>
              interface using RF Plasma nitridation

Passivation of Ge/high- κ interface using RF Plasma nitridation

Dushaq, Ghada; Nayfeh, Ammar; Rasras, Mahmoud
  • 期刊名称Semiconductor Science and Technology
  • 作者Dushaq, Ghada; Nayfeh, Ammar; Rasras, Mahmoud
  • 卷第33卷
  • 期第1期
  • 印刷ISSN0268-1242
  • 电子ISSN1361-6641
  • 文件大小2826.90KB
  • 发表时间2018-01-01
  • DOI10.1088/1361-6641/aa98cd
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