发现好书期刊,享受阅读乐趣

海量图书期刊资源,随时随地畅享阅读乐趣

Epitaxial Ge-rich silicon layers after dry oxidation of Ge implanted silicon

Epitaxial Ge-rich silicon layers after dry oxidation of Ge implanted silicon

Baghizadeh, A.; Lotfi, E.; Agha–Aligol, D.
  • 期刊名称Vacuum
  • 作者Baghizadeh, A.; Lotfi, E.; Agha–Aligol, D.
  • 卷第160卷
  • 印刷ISSN0042-207X
  • 文件大小1596.49KB
  • 发表时间2019-02
  • DOI10.1016/j.vacuum.2018.11.045
  • 页码311-315
← 返回【学霸图书馆】主页