ChemInform Abstract: TETRABORANE(8) ADDUCTS OF STRONGLY BASIC PHOSPHINES
- 期刊名称Chemischer Informationsdienst
- 作者KAMEDA, M.; SHIMOI, M.; KODAMA, G.
- 卷第16卷
- 期第8期
- 印刷ISSN0009-2975
- 文件大小200.03KB
- 发表时间1985-02-26
- DOI10.1002/chin.198508223
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Plasma etching characteristics of sputtered MoSi2 filmsChow, T. P.; Steckl, A. J. · Applied Physics Letters · 1980
Size effects in MoSi2-gate MOSFET’sChow, T. P.; Steckl, A. J. · Applied Physics Letters · 1980
ChemInform Abstract: Thin Film Properties of Sputtered Niobium Silicide on SiO <sub/>2</sub> , Si <sub/>3</sub> N <sub/>4</sub> , and N+ Poly-Si.CHOW, T. P.; LU, W. J.; STECKL, A. J.; BALIGA, B. J. · Chemischer Informationsdienst · 1986
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