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Maskless ion beam lithography system

Y. Lee; R.A. Gough; T.J. King; Q. Ji; K.N. Leung; R.A. McGill; V.V. Ngo; M.D. Williams; N. Zahir

作者Y. Lee; R.A. Gough; T.J. King; Q. Ji; K.N. Leung; R.A. McGill; V.V. Ngo; M.D. Williams; N. Zahir
卷第46卷
印刷ISSN0167-9317
文件大小874.87KB
发表时间1999
DOI10.1016/s0167-9317(99)00042-8
页码469-472