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Anisotropic Etching Using Reactive Cluster Beams

Koike, Kunihiko; Yoshino, Yu; Senoo, Takehiko; Seki, Toshio; Ninomiya, Satoshi; Aoki, Takaaki; Matsuo, Jiro

期刊名称Applied Physics Express
作者Koike, Kunihiko; Yoshino, Yu; Senoo, Takehiko; Seki, Toshio; Ninomiya, Satoshi; Aoki, Takaaki; Matsuo, Jiro
卷第3卷
期第12期
印刷ISSN1882-0778
电子ISSN1882-0786
文件大小833.47KB
发表时间2010-12-10
DOI10.1143/APEX.3.126501