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Hot-electron relaxation in ZnO films

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M.D. Yang; S.W. Wu; S.C. Tong; G.W. Shu; Y.W. Liu; J.L. Shen; S.M. Lan; C.H. Wu; Y.H. Huang; T.N. Yang
  • 作者M.D. Yang; S.W. Wu; S.C. Tong; G.W. Shu; Y.W. Liu; J.L. Shen; S.M. Lan; C.H. Wu; Y.H. Huang; T.N. Yang
  • 卷第519卷
  • 期第10期
  • 印刷ISSN0040-6090
  • 文件大小461.23KB
  • 发表时间2011
  • DOI10.1016/j.tsf.2010.12.232
  • 页码3421-3424
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