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In Gratitude to Steven Girshick

In Gratitude to Steven Girshick

Murphy, Anthony B.; Vepřek, Stan
  • 期刊名称Plasma Chemistry and Plasma Processing
  • 作者Murphy, Anthony B.; Vepřek, Stan
  • 卷第34卷
  • 期第4期
  • 印刷ISSN0272-4324
  • 电子ISSN1572-8986
  • 文件大小97.83KB
  • 发表时间2014-07
  • DOI10.1007/s11090-014-9561-1
  • 页码703-704
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