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Effect of C and B sequential implantation on the B acceptors in 4H–SiC

Effect of C and B sequential implantation on the B acceptors in 4H–SiC

Nakano, Yoshitaka; Malhan, Rajesh Kumar; Kachi, Tetsu; Tadano, Hiroshi
  • 期刊名称Journal of Applied Physics
  • 作者Nakano, Yoshitaka; Malhan, Rajesh Kumar; Kachi, Tetsu; Tadano, Hiroshi
  • 卷第89卷
  • 期第11期
  • 印刷ISSN0021-8979
  • 文件大小297.77KB
  • 发表时间2001
  • DOI10.1063/1.1359426
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